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溫度控制槽 - Tamperature Chamber
在需要控制溫度的條件下,可以使用溫控槽,穩定的溫度可經由外接橫溫水浴曹維持,槽體為鋁合金本體,具備三面溫度傳導結構,可快速而穩定的達到預設溫度環境,溫度控制藉由外接恆溫水浴箱及適當流體選擇,範圍在0 ℃至120 ℃.具備雙層透明玻璃視窗,可減少水汽凝結視窗情形,以確保測量時之清晰及完整影像品質.

槽體可輕易拆卸清洗,另有槽內溫度感測裝置及RS-232介面軟體操作可供選購(0.1 ℃ 解析度).

尺寸:

槽體: 110 x 70 x 95 mm ( W x H x D )
玻璃視窗 : 30 x 30 mm

內部空間 : 45 x 30 x 38 mm (W x D x H), 約50 ml.
槽體尺寸另可依應用需要設計,內部空間可加大20-30 mm.
電子式溫控槽適用於高溫控制(最高300 ℃),如高分子或融溶液體等.

表面/界面張力應用:

溫度為表面/界面張力重要參數,因此測量時應於良好溫控環境下進行,若液體含有界面活性劑時, 會產生動態結果(即表面/界面張力會隨時間改變). 此時可能需長時間才會達最終平衡或穩定狀態(數分鐘至數小時),若使用懸滴法測量,液滴可能會因蒸發消失或體積減少而影響表面張力測量值,此時建議採用上升氣泡/液滴法測量,在底部產生由下往上之氣泡或液滴影像,所需附件可依需要提供.

CMC應用:

典型方式可準備一系列不同濃度之溶液樣品,然後利用懸滴法各別測量其表面張力值.
另一選項方式為採用上升氣泡法: 開始時在溫控槽內充填已知體積溶液(如水),測量其表面張力值,然後加入定量已知濃度的界面活性劑(如使用ADU自動滴定裝置),待其平衡後測量表面張力值,持續陸續重複進行,對於例行CMC測量工作,可配備使用兩組自動滴定裝置,以提高操作效率.

 
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